Целта на тен с висока чистота

Tantalum targetобикновено се нарича гола цел. Като цяло първо той е заварен с медна задна мишена и след това може да се използва за полупроводници или оптично разпръскване за отлагане на атоми на танталум върху материал на субстрата под формата на оксид за постигане на разпръскващо покритие.

Параметри на производителността
Размерът на зърното му е {{0} μm, а текстурата е равномерна, която е ключов параметър, отразяващ вътрешната производителност на материала.

Чиста TA метален разпръскващ целева компания

Чиста Tantalum Metal Sputtering Target Company

В: Как да се достави?

О: Имаме перфектна система за логистични услуги.

В: Продуктът за поддръжка на продукта/персонализирана услуга?

О: Ние предоставяме SampleService и персонализирана услуга, когато покупката достигне посоченото количество.

В: Има ли някаква отстъпка?

О: Да, ние ще издадем всеки месец или отстъпки според ситуацията. Ако се интересувате, ще ви дадем канал, за да получите купони, когато планирате поръчка.

Въпрос: Как да изберем марките и видовете метални материали?

О: На повечето страници с подробности за продукта ще опишем различните приложения на различни марки материали в табличен вид. Ако имате други проблеми, можем да го обсъдим допълнително.

В: Не сте сигурни какъв вид метален материал е необходим?

О: Моля, разкажете ни за използването на материали и ние ще ви дадем референтни предположения според различни характеристики на материала.

В: Предоставяте ли тестови отчети?

О: Да, ние предоставяме отчети за тестове на трети страни. Ако е посочена трета страна, ще бъдат начислени допълнителни такси.