Танталови целисе използват широко в областта на полупроводниците. Сред тях най-често срещаното приложение е за получаване на полупроводникови зародишни кристали. Чрез процеси като физическо отлагане на пари, слой от полупроводников материал се отлага върху повърхността на танталова мишена и след това семето се засява с полупроводникова пластина. Приготвеният полупроводников материал има предимствата на висока чистота, ниска плътност на дефекти, добра еднородност и т.н. и може да се използва за производство на високопроизводителни полупроводникови устройства.
В допълнение към приготвянето на полупроводникови зародишни кристали, танталовите мишени могат да се използват и за приготвяне на други полупроводникови материали, като силиций, германий, силициев карбид и др. В процеси като химическо отлагане на пари танталовите мишени се въвеждат в реакционната камера заедно с други полупроводникови прекурсори, които да реагират и да генерират необходимия полупроводников филм.